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福建自動回轉(zhuǎn)探傷清洗機(jī)廠家

發(fā)布時(shí)間:2022-04-18 201次瀏覽

福建自動回轉(zhuǎn)探傷清洗機(jī)廠家

蘇州格瑞泰克環(huán)保科技有限公司:江蘇省高新技術(shù)企業(yè)、江蘇省科創(chuàng)板掛牌企業(yè)、蘇州相城區(qū)十佳企業(yè)、江蘇省民營科技企業(yè)、蘇州市創(chuàng)業(yè)領(lǐng)軍人才企業(yè)、相城區(qū)陽澄湖創(chuàng)業(yè)領(lǐng)軍人才企業(yè)、ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證企業(yè)、歐盟CE安全認(rèn)證企業(yè); 專業(yè)從事高清潔度問題解決系統(tǒng)的研發(fā)制造營銷及服務(wù)于一體的大型工業(yè)清洗設(shè)備制造企業(yè);設(shè)“蘇州”“成都”兩個生產(chǎn)工廠。

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有機(jī)溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片,以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯,鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油,求芯也稱定芯、取芯,指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序)、手印、灰塵等。

1、概況:一定頻率范圍內(nèi)的聲波作用于液體介質(zhì)內(nèi)可起到清洗工件的作用,這一清洗技術(shù)自問世以來,受到了各行各業(yè)的普遍關(guān)注,超聲波清洗的運(yùn)用極大地提高了工作效率和清洗效果,以往,清洗死角、盲孔和難以觸及的藏污納垢一直使人們備感茫然,超聲波清洗的開發(fā)和運(yùn)用使這一工作變得輕而易舉。

在此不再贅述,三、兩種清洗方式的比較,它的缺點(diǎn)就是清洗的速度比溶劑稍慢,并且必須要進(jìn)行漂洗,2、鍍膜前清洗,由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴(yán)格,因此清洗劑的選擇是很重要的,在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時(shí),還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。

蘇州工廠占地25畝,位于:蘇州市相城區(qū)望亭鎮(zhèn)迎湖路19號,毗鄰太湖,風(fēng)景優(yōu)美!

目前公司擁有:工程師18人,生產(chǎn)技術(shù)60人,品質(zhì)管理4人,售后服務(wù)5人,輔助人員12人。

公司為阿特萬超聲波公司的科技品牌公司:清洗行業(yè)沉淀12年,聘請博士團(tuán)隊(duì)技術(shù)支持,深度研發(fā)合作實(shí)踐;公司先后獲得清洗行業(yè)專利13項(xiàng),軟著1項(xiàng);公司本著“技術(shù)為先、品質(zhì)優(yōu)良、至誠服務(wù)”的經(jīng)營理念,憑借技術(shù)開發(fā)平臺及精湛的制造能力,用其博大的胸懷求得與用戶、供應(yīng)商共同成長。

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超聲波在電子行業(yè)的應(yīng)用,電子元器件的基體清洗:電子元器件的基體是由半導(dǎo)體材料制成并封裝在金屬或塑料殼座中形成的,在封裝前,不但對殼座必須清洗,而且也必須對基體進(jìn)行清洗,如IC芯片、電阻、晶體、半導(dǎo)體、原膜電路等。

12um,金屬污染小于1010atom/cm2,以前很多廠家都用手洗的方法,這種方法人為的因素較多,一方面容易產(chǎn)生碎片,經(jīng)濟(jì)效益下降,另一方面手洗的硅片表面潔凈度差,污染嚴(yán)重,使下道工序化拋腐蝕過程中的合格率較低。

產(chǎn)品簡介:

我公司緊密跟蹤并全面采用國際先進(jìn)的工藝及制造技術(shù),研究開發(fā)生產(chǎn)高品質(zhì)、次、高技術(shù)的各類專用生產(chǎn)設(shè)備,在工業(yè)清洗設(shè)備行業(yè)及SCR脫硝催化劑再生行業(yè),我們能為您提供以下生產(chǎn)設(shè)備:

1.全系列催化劑清洗再生系統(tǒng)(除灰、噴淋、超聲清洗再生、烘干、廢水處理)

2.全系列工業(yè)清洗機(jī)(超聲波、碳?xì)洹娏芮逑矗?/p>

3.全系列高、中、低壓定點(diǎn)定位單工位噴淋清洗機(jī)

4.純水系統(tǒng)、工業(yè)冷液機(jī)、工業(yè)碳?xì)湓O(shè)備

5.自動、半自動電鍍表面處理設(shè)備、酸洗腐蝕、蝕刻清洗線

6.潔凈烘箱、高溫烘箱、烘干隧道爐

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特別是高密度PCB以及高密度IC出腳不清洗或不采用超聲波清洗,必將導(dǎo)致高密度線路之間和IC出腳之間吸附塵埃,一旦環(huán)境濕度大,極易發(fā)生高密度線間和腳間短路而出現(xiàn)故障,而一旦環(huán)境干燥,短路故障又自行消失,這類故障又不易查找。

關(guān)于硅片超聲波清洗技術(shù),在半導(dǎo)體材料的制備過程中,每一道工序都涉及到清洗,而且清洗的好壞直接影響下一道工序,甚至影響器件的成品率和可靠性,由于ULSI集成度的迅速提高和器件尺寸的減小,對于晶片表面沾污的要求更加嚴(yán)格,ULSI工藝要求在提供的襯底片上吸附物不多于500個/m2×0。

經(jīng)營理念:

我們秉著“技術(shù)為先、品質(zhì)優(yōu)良、至誠服務(wù)”的公司經(jīng)營方略,用真誠和技術(shù)服務(wù)與客戶建立長期、可靠的戰(zhàn)略性合作伙伴關(guān)系;我們還將銳意進(jìn)取,拓展我們的銷售渠道及支援網(wǎng)絡(luò)。藉此確保我們的客戶能獲得良好的產(chǎn)品服務(wù)和支援。

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